據(jù)國外媒體報道，IBM在近期內(nèi)將會給大家展示他們的新成果，即IBM已經(jīng)突破應(yīng)用于光學(xué)平板印刷的制造芯片方面的技術(shù)，已經(jīng)達(dá)到了32nm。大多的制作技術(shù)還不能夠在32nm的微處理器上進行蝕刻。但是IBM克服了這一困難，可以以29.9nm的寬度進行蝕刻，完成了193nm縱深紫外線(DUV)光學(xué)平版印刷術(shù)的開發(fā)。IBM的博士RobertDAllen表示，IBM阿爾馬登的研究中心的平版印刷術(shù)相關(guān)的管理人，我們的目標(biāo)是不斷的推進光學(xué)平版印刷技術(shù)，讓其發(fā)展到一個頂峰，直到不能再繼續(xù)，然后往其它的方向發(fā)展。這次研究的成功證明了，莫爾定律在芯片制造方面至少還有7年的發(fā)展空間。
現(xiàn)在大多的處理器的采用的還是90nm技術(shù)，英特爾剛開始步入65nm臺階。
IBM計劃在SPIE微蝕刻技術(shù)國際研討會上展示它的這一成果。
